光刻机（baiMaskAligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem。是指在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时
2024-02-02目前全球范围内美国的科技力量排第一是毫无疑问的，但近些年随着我国在国际上综合国力的提升，在一些单项科技领域中也走到了世界领先的地位：比如屡屡被他国针对的华为5G
